異なる形状を有するサブ波長回折格子のイメージング｜VirtualLab技術情報

サブ波長回折格子は、近軸光で照射される際に1回折次数のみを発生します。したがって、この状況では像は形成されません。これを克服するために、非近軸照明を使用することができます。この事例においては、高NAのコンデンサーレンズを使用して、異なる形状を有する回折格子に高度に集束した光を照射し、回折光を別の高NA対物レンズによって集めます。VirtualLabでは、フーリエモーダル法によるサブ波長回折格子の厳密なシミュレーションを含め、こうした可視化処理のシミュレーションが可能です。

モデリングタスク

高NA光学系における回折格子からの回折とベクトル効果を考慮して、サブ波長回折格子の像を計算する方法とは？

光線追跡システム解析

光線追跡手法では複数の回折次数を含めて、空間で完全な光学系の概要を素早く確認することができます。

焦点面の電磁場

サンプル上の高度に集光された状態での電磁場のベクトル効果を示しています。

イメージング解析

高NAイメージングシステムにおけるサブ波長回折格子(FMMでモデル化)の像形成の完全な物理光学シミュレーションに10秒未満しか要しません。

ドキュメント情報

タイトル	Imaging of Sub-Wavelength Gratings with Different Profiles
バージョン	1.1
使用した VirtualLab のバージョン	7.4.0.45
カテゴリー	Application Use Case